반도체 취업 포트폴리오 구성법 (기본 구성 요소, 차별화 전략, 제출 전략)
반도체 산업은 기술 중심의 고부가가치 산업으로, 설계, 공정, 장비, 테스트, 패키징 등 다양한 직무군이 존재합니다. 그만큼 취업을 준비하는 구직자 입장에서는 자신이 지닌 역량과 전문성을 명확하게 드러낼 수 있는 포트폴리오가 매우 중요합니다. 특히 최근에는 단순한 이력서나 자소서 외에도 실무 능력, 프로젝트 경험, 기술 활용 능력을 시각적으로 제시할 수 있는 포트폴리오의 비중이 높아지고 있습니다. 반도체 직무는 이론 지식뿐만 아니라, 회로 설계, 시뮬레이션, 공정 이해, 장비 운용, 데이터 분석, 문제 해결 능력 등이 종합적으로 요구되기 때문에 이를 체계적으로 정리한 포트폴리오는 기업에서 지원자를 평가하는 중요한 기준이 됩니다. 본문에서는 반도체 관련 전공자 및 이직 준비자, 취업 준비생을 대상으로 실무..
2025. 12. 12.
반도체 소재 국산화 성공사례 (고순도 불산, 극자외선용, 실리콘 웨이퍼)
반도체 산업은 고도의 정밀성과 기술 집약적 특성으로 인해, 핵심 소재에 대한 해외 의존도가 높았습니다. 특히 일본, 미국, 유럽 등 선진국에서 개발한 고순도 화학소재, 포토레지스트, 실리콘 웨이퍼 등은 한국 반도체 제조사의 공급망에서 중요한 위치를 차지해 왔습니다. 그러나 2019년 일본의 수출 규제 조치 이후, 한국 정부와 기업들은 소재 국산화에 대한 필요성을 절감하고 적극적인 투자와 연구개발에 착수하였습니다. 불과 몇 년 사이, 국내에서는 기술 장벽이 높았던 핵심 반도체 소재들을 자체 개발하거나 국산 대체재를 확보하는 데 성공하며, 기술 자립의 기틀을 마련하게 되었습니다. 본문에서는 한국 반도체 산업이 어려운 여건 속에서도 자체적으로 국산화에 성공한 주요 소재 사례들을 중심으로, 그 배경과 의미, 산..
2025. 12. 11.
반도체 표면처리 기술 종류 (화학적, 물리적, 플라즈마)
반도체 제조 공정은 극도로 정밀한 과정을 거쳐야 하며, 특히 웨이퍼 표면의 상태는 전체 소자의 품질과 수율을 좌우하는 매우 중요한 요소입니다. 반도체 표면처리 기술은 웨이퍼나 소자 표면의 불순물 제거, 평탄화, 개질, 보호막 형성 등 다양한 목적을 가지고 있으며, 각 단계마다 다른 기술이 사용됩니다. 이 표면처리 기술들은 주로 물리적, 화학적, 플라즈마 기반 방법으로 나뉘며, 처리 방식에 따라 미세구조의 형성, 오염도 제거, 계면 특성 개선 등을 통해 소자의 성능과 신뢰성을 향상시킵니다. 특히 최근에는 초미세 공정, 3D 구조의 확산, 저전력 고성능 소자의 요구가 높아지면서 표면처리 기술 또한 고도화되고 있습니다. 본문에서는 반도체 제조 공정에서 사용되는 주요 표면처리 기술의 종류, 각 기술의 특징 및 ..
2025. 12. 11.
반도체 품질 이상 감지 기술 (광학 검사, 센서 데이터 기반, AI 기반)
반도체 제조 공정은 수백 개의 복잡한 단계를 거쳐야 하는 고정밀 산업으로, 미세한 오차나 결함이 전체 제품의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미칩니다. 특히 웨이퍼 크기의 확대, 회로 선폭의 축소, 집적도의 증가로 인해 품질 이상을 사전에 감지하고 대응하는 기술의 중요성은 날로 커지고 있습니다. 반도체 품질 이상 감지 기술은 생산 수율을 높이고, 비용 손실을 줄이며, 고객 품질 요구를 만족시키기 위한 필수 요소로 자리 잡고 있습니다. 최근에는 전통적인 검사 장비뿐 아니라 인공지능, 빅데이터, 비전 시스템, 센서 네트워크 등을 활용한 이상 감지 시스템이 빠르게 고도화되고 있으며, 실시간 모니터링 및 자동 대응까지 가능해지는 방향으로 발전하고 있습니다. 본문에서는 대표적인 반도체 품질 이상 감지 기술들을 세 ..
2025. 12. 10.
